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Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS

J MICRO-NANOLITH MEM

ISSN：1932-5150　E-ISSN：1932-5134 　出版商：SPIE 　国家：UNITED STATES 　周期：Quarterly

影响因子（2024）
1.800
中科院分区（2025 官方末版）
暂无
JCR 分区
Q3
审稿周期
约9 周
录用比例
暂无
收录情况 　h-index：37 　CiteScore：3.30
投稿入口： 投稿系统　 期刊官网　

期刊简介

The Journal of Micro/Nanolithography| MEMS| and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science| development| and practice of lithographic| fabrication| packaging| and integration technologies necessary to address the needs of the electronics| microelectromechanical systems| micro-optoelectromechanical systems| and photonics industries.

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